阿斯麦光刻机技术差距揭秘，落后八代，技术差距超十年

阿斯麦向中国市场出口的光刻机技术落后，相较于最新技术落后八代，技术差距超过十年，这一事实需要被认清，提醒人们不能忽视技术差距的存在，光刻机是半导体制造的核心设备，技术的先进与否直接影响半导体产业的发展，我们应该清醒地认识到当前的技术状况，推动自主创新和技术进步。

12月15日消息，阿斯麦对中国出口的光刻机到底有多落后，按照其CEO的说法，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。

近日，阿斯麦首席执行官克里斯托夫富凯接受采访时表示，目前阿斯麦对华出口的设备，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。

到底有落后，这些出口光刻机的技术水平相当于我们公司2013、2014年销往西方客户的产品，技术差距超过十年。这位CEO说道。

克里斯托夫富凯表示，如果西方过度收紧限制，将中国逼至绝境，迫使中方别无选择、只能彻底摆脱对西方技术的依赖，反而会倒逼中国决心自主研发替代产品。从长远来看，这将导致西方彻底失去这一庞大市场。

所以，问题的关键在于，我们要把这种技术差距拉大到何种程度？是让中国落后5年、10年，还是15年？中国已经在很多领域实现自主研发了，假以时日，他们甚至可能反过来向我们出口这些产品。