阿斯麦光刻机技术差距揭秘，落后八代，技术差距超十年 阿斯麦向中国市场出口的光刻机技术落后，相较于最新技术落后八代，技术差距超过十年，这一事实需要被认清，提醒人们不能忽视技术差距的存在，光刻机是半导体制造的核心设备，技术的先进与否直接影响半导体产业的发展，我们应该清醒地认识到当前的技术状况，推动自主创新和技术进步。...
