中国科大突破传统工艺局限，晶体自刻蚀新工艺问世 中国科学技术大学成功研发出晶体“自刻蚀”新工艺，打破了传统工艺局限，这一创新技术能够在晶体内部实现自我刻蚀，极大地提高了加工精度和材料利用率，该工艺有望推动晶体材料加工领域的技术革新，促进相关产业的发展。...
